| Form of studies |
Professional Bachelor |
| Title of the study programm |
Medical Engineering and Physics |
| Title in original language |
Benzola un heksāna tvaiku ietekme uz silīcija piesliekšņa elektronu emisiju |
| Title in English |
Influence of the Benzole and Hexane Vapor Deposited on Silicon Pre-threshold Electron Emission |
| Department |
Faculty Of Civil And Mehanical Engineering |
| Scientific advisor |
J. Dehtjars |
| Reviewer |
|
| Abstract |
Bakalaura darba mērķis ir izpētīt benzola un heksāna tvaiku ietekmi uz silīcija
piesliekšņa emisiju, izmantojot fotoelektronu un termostimulēto eksoelektronu emisijas, lai
noteikt iespējamību pielietot silīcija sensorus tvaikugāzu analīzei. Noskaidrot var mainot
ekspozīcijas laiku adhēzijas process uzlabojās, kā arī noteikt kura no emisijas metodēm ir
jūtīgāka.
Bakalaura darbs sastāv no ievada, literatūras pārskata, darba gaitā pielietotās
eksperimentu metodikas, rezultātiem un secinājumiem.
Iegūtie eksperimentu rezultāti tiek salīdzināti savā starpā, nosakot kā tvaiki ietekmē
silīcija virsmas īpašības un kā tas atspoguļojās uz emisijas spektriem. Darba secinājumos tiek
piedāvāti priekšlikumi par eksperimentu uzlabošanu ar mērķi izpētīt sīkāk iespēju izmantot
silīcija materiālu kā sensoru.
Bakalaura darbs ir uzrakstīts latviešu valodā, kas satur 10 tabulas, 85 attēlus.
Darba apjoms sastāda 64 lappuses, 17 izmantotās literatūras avotus. |
| Keywords |
Eksoemisija |
| Keywords in English |
Exoemission |
| Language |
lv |
| Year |
2010 |
| Date and time of uploading |
19.04.2011 11:33:49 |
