| Studiju veids |
bakalaura profesionālās studijas |
| Studiju programmas nosaukums |
Medicīnas inženierija un fizika |
| Nosaukums |
Stentu pārklājumu magnetrona izsmidzināšanas iekārtas modernizācija |
| Nosaukums angļu valodā |
Modernization of stent coating magnetron sputtering device |
| Struktūrvienība |
25200 Biomedicīnas inženierzinātņu un nanotehnoloģiju institūts |
| Darba vadītājs |
Jurijs Dehtjars |
| Recenzents |
Nadežda Fedorjana |
| Anotācija |
Inženierprojekta mērķis ir izstrādāt stenta turētāja mehānismu magnetrona
izsmidzināšanas iekārtas TION-2M modernizācijai, kas magnetrona izsmidzināšanas
darba kamerā nodrošinātu stenta rotāciju ap kameras centrālo-vertikālo asi 360°, ap
savu asi 360° un stenta šūpošanu ~30°.
Darbs sastāv no ievada, literatūras apskata par pasaules tirgū pieejamajiem
mehānismiem, kas nodrošinātu stenta rotējošo/šūpošanas pārvietošanu magnetrona
izsmidzināšanas kamerā, magnetrona izsmidzināšanas iekārtu stentu rotējoša/šūpojoša
turētāja mehānismu analogu un prototipa analīzes, tehniskā uzdevuma stentu
rotējoša/šūpojoša turētāja mehānisma magnetrona izsmidzināšanas iekārtai,
inženierrisinājumu variantu analīzes un izvēles, inženieraprēķiniem, modernizētas
magnetrona izsmidzināšanas iekārtas apraksta, tehnoloģiskajiem aprēķiniem stentu
rotējoša/šūpojoša turētāja mehānisma detaļas izgatavošanai, modernizētas magnetrona
izsmidzināšanas iekārtas izvietojuma telpā, izgatavošanas izmaksu aprēķiniem, darba
aizsardzības, civilās aizsardzības un vides aizsardzības pasākumiem modernizētas
magnetrona izsmidzināšanas iekārtas izmantošanai, secinājumiem un rekomendācijām
par modernizētas magnetrona izsmidzināšanas iekārtas izmantošanu, kā arī no
izmantotās literatūras un avotu saraksta.
Inženierprojekta apjoms ir 62 lappuses. Darbs satur 14 tabulas, 31 attēlu un 51
literatūras avotu. Grafiskā daļa sastāv no 7 rasējumiem A1 formātā, kā arī 2 A4 formāta
tehniskās specifikācijas lapām. |
| Atslēgas vārdi |
magnetrona izsmidzināšana, stentu pārklājumi |
| Atslēgas vārdi angļu valodā |
magnetron sputtering, stent coating |
| Valoda |
lv |
| Gads |
2023 |
| Darba augšupielādes datums un laiks |
12.01.2023 19:25:39 |
