| Studiju veids |
bakalaura profesionālās studijas |
| Studiju programmas nosaukums |
Medicīnas inženierija un fizika |
| Nosaukums |
Elektrostatiskā substrāta sagatavošanas tehnoloģija SiO2 nanodaļiņu piesaistei |
| Nosaukums angļu valodā |
Substrate preparation technology for the electrostatic attraction of SiO2 nanoparticles |
| Struktūrvienība |
31000 Būvniecības un mašīnzinību fakultāte |
| Darba vadītājs |
Jurijs Dehtjars; H.Sorokins |
| Recenzents |
Aleksandrs Vilkens, Pētnieks, RTU |
| Anotācija |
Inženierprojekts darba mērķis ir izstrādāt substrāta sagatavošanas tehnoloģiju elektrostatiskai nanodaļiņu piesaistei nebojājot (vai minimāli bojājot) virsmas ķīmiskas saites. Viens no galvenajiem posmiem ir substrāta apstarošana, lai iegūtu noteiktu lādiņu. Lai nodrošinātu procedūras atkārtojamību un darbības precizitāti, ir nepieciešams ir izstrādāt uzlādēšanas ierīci.
Darbs sastāv no ievada, literatūras apskata daļas, pētījumu daļas, tehnoloģijas izstrādes daļas, iekārtas izstrādes daļas, ka arī no izmaksu aprēķina, darba drošības, apkartējas vides aizsardzības, civilas aizsardzības apraksta, secinājumiem un rekomendācijām.
Kvalifikācijas darba izstrādes laika tika noteikts, ka pirms nanodaļiņu uzklāšanas ir substrāta, nepieciešams veikt papildus stikla attīrīšanu pēc apstarošanas. Tika izstrādāta arī uzlādēšanas ierīce, kura padara procesu efektīvāku un drošāku. Ar mērījumiem tika pierādīts iekārtas nepieciešamība tirgū.
Darbs satur 67 attēlus, 12 tabulas un 5 pielikumus. Darba apjoms 89 lpp. (bez pielikuma). Darba izstrādei tika izmantoti 51 literatūras avoti. |
| Atslēgas vārdi |
SiO2 nanodaļiņas, UV starojums, tehnoloģija, substrāta uzlādēšana, elektrostatiska piesaiste, uzlādēšana, uzlādēšanas ierīce |
| Atslēgas vārdi angļu valodā |
SiO2 nanoparticles, UV irradiation, technology, irradiation of the substrate, electrostatic interaction, charging device |
| Valoda |
lv |
| Gads |
2018 |
| Darba augšupielādes datums un laiks |
09.01.2018 03:06:25 |
